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突破掩模限制!尼康发布全球首款后道光刻机网友刷爆了

   更新时间: 2025-10-28 05:10  发布时间: 3小时前   2660

快科技7月23日消息,据媒体报道,全球光刻巨头尼康近日宣布,正式推出全球首款专为半导体后道工艺设计的无掩模光刻系统——DSP100,并已启动全球预订,预计于2026年3月31日前正式上市。

该设备以“高精度、大尺寸、高效率”为核心优势,旨在为快速发展的扇出型面板级封装(FOPLP)技术提供关键设备支持。

DSP100将FPD曝光设备的多镜组技术,与半导体高分辨率工艺相结合,实现了1.0μm(1000nm)的线宽/间距(L/S)分辨率,重合精度≤±0.3μm,不仅提升了图像的清晰度,扩大曝光范围,生产效率也提升30%左右。

与传统光刻机不同,DSP100采用无掩膜的SLM(空间光调制器)技术,直接将电路图案投射到基板上,无需使用光掩膜。这种方式既避免了掩膜尺寸的限制,还能大幅降低开发和生产成本,同时缩短产品设计和制造周期。由于无需掩膜,该设备还可以有效减少光学畸变,提高成像质量。

DSP100支持最大600mm x 600mm的方形基板,适用于扇出面板级封装(FOPLP)技术,这是当前先进封装领域的重要趋势。相比传统300mm晶圆,600mm基板能显著提升单位载板产量(例如,封装100mm见方芯片时效率可提升9倍)。

实测数据显示,在510mm×515mm基板上,其每小时处理量可达50片,远超现有晶圆级封装方案。整体生产效率提升约30%。

随着AI芯片用量年均激增35%,先进封装市场正以20% 的复合增长率高速扩张。台积电、英特尔、三星等行业巨头正积极采用FOPLP技术以突破300mm晶圆限制。DSP100的推出,正为这一蓬勃发展的市场提供了急需的先进装备。

尼康透露,DSP100已获得多家头部封测厂的订单意向。公司预计,该设备在2026财年上市后,将迅速抢占FOPLP设备市场20% 的份额,成为推动先进封装技术演进的重要力量。

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责任编辑:鹿角



 

 
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